MIT、IEEE多项最佳论文获得者张政:面向工艺不确定性的电子与光子芯片设计自动化 | 鸿绎直播课

百家 作者:DeepTech深科技 2018-12-20 10:02:25


纳米集成电路与光电子集成芯片制造中的核心难点之一是工艺不确定性——纳米级别的芯片制造工艺偏差会对整个芯片性能及大规模生产的合格率带来巨大的影响。而现在商业EDA软件中的主流算法(如蒙特卡洛算法),并不能高效解决工艺不确定性问题。


MIT、IEEE多项最佳论文获得者张政教授及其团队发明了一系列自动化设计算法。这些算法能够在器件、电路及系统层级进行快速建模、仿真与优化,在许多设计场合比现在传统方式速度快几千倍以上,且精度更高。这些研究结果有望对一代EDA软件的开发带来重大的影响。


12月23日,鸿绎智库将邀请张政教授为大家带来面向工艺不确定性的电子与光子芯片设计自动化”的主题分享。


学科涉及

微电子、光电、计算机、计算数学、电路理论等


应用领域

电子设计自动化、光子设计自动化、物联网、芯片设计


欢迎相关领域研究人员、产业人士报名参加



关于鸿绎智库

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