不用EUV设备,SK Hynix 1znm 16Gb DDR4生产率提高约27%

SK Hynix宣布采用第三代10nm级(1znm)工艺开发出16Gbit DDR4。
通过在单个芯片上实现业界大容量的16Gb,单个晶片上生产的容量也是现有DRAM中最大。与第二代(1ynm)产品相比,生产率提高了约27%。

随着半导体工艺技术的发展,必须利用极紫外EUV设备制作更精细的电路,但SK Hynix第三代10nm级工艺无需昂贵的EUV设备即可生产。
DDR4规范的最高速度支持3200Mbps的数据传输速率,与第二代8Gb生产相同容量的DRAM产品相比,功耗降低了约40%。
重要的是,第三代产品使用了上一代生产过程中未使用的新材料来增加电容,电容是指存储电荷的数量/容量。随着DRAM电容的增加,数据的保留时间和一致性也会增加,这是DRAM的关键要素。另外,已经引入了新的设计技术以提高稳定性。
SK Hynix表示:第三代10nm级DDR4是满足行业客户寻求高性能/大容量DRAM的最佳产品,我们将在今年内做好批量生产的准备,并于2020年开始全面供应,并将积极响应市场需求。
同时,SK海力士计划将第三代10nm级技术扩展到各种应用,例如下一代移动LPDDR5和HBM3。HBM是一种高性能产品,使用TSV技术作为高带宽存储器,比传统DRAM数据处理速度更快。
在DRAM市场上,三星、SK海力士、美光合计占据90%以上的市占份额,相较于SK海力士,三星、美光早已投入了1znm工艺量产DRAM。
不过,在2019年3月份,三星宣布开发出的是第三代10纳米级(1znm)8Gb DDR4,而且也不使用极紫外光刻(EUV)设备处理,就突破了DRAM的技术挑战。新的1znm 8Gb DDR4相较于1ynm生产率可提高20%以上,计划在下半年开始量产,2020年满足企业服务器和高端PC应用的DRAM需求。
美光则是在2019年8月份宣布大规模生产1Znm 16Gb DDR4产品,与前几代基于8Gb DDR4的产品相比,功耗降低约40%。美光在1znm工艺世代以后,还将有1αnm、1βnm、1γnm进行微细化的工艺。
DRAM 1znm技术的发展,推动的是对DRAM容量和性能的提升,将满足服务器和PC市场需求,未来还将推出1znm的LPDDR5满足高端手机市场需求,迎接5G手机的到来。

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