韩半导体原材料“去日化”取得阶段性进展

近日，韩国工业和能源部宣布今年将通过扩建新工厂稳定国内供应链并抵制日本对其三项产品的出口限制。

自去年七月份日本宣布向对韩国出口的三种半导体材料采取出口管制以来，韩国企业一直积极推动本地化生产，韩国工业和能源部表示，预计今年有可能稳定三种半导体和显示核心材料供应。

高纯度氟化氢

韩国重要的蚀刻液生产厂商Soulbrain在忠清南道州新建了工厂确保高纯度液态氟化氢的高产能，并已经向三星和SK海力士开始供货。

自去年开始，RAM Technology就开始向SK海力士供应高纯度氟化氢，并继续提升高品质氟化氢的供应。今年二月，RAM Technology决定投资300亿韩元用于建设新工厂，计划在2021年开始运营，完工后，氟化氢产能可提升5倍。

除此之外，SK materials正计划供应基于三氟化氮（NF3）技术的蚀刻气体。NF3是一种特殊气体，用于制造半导体，显示器和太阳能电池。在去年底，该工厂在庆北的工厂建成，并开始生产，目前正在与客户进行样品测试。

EUV光刻胶

与氟化氢不同的是，EUV光刻胶需要更多的时间，其技术开发和批量生产并不容易。在该领域中，日本JSR，信越化学和东京冈工业株式会社（TOK）占据主导地位。

去年，杜邦决定计划在明年投资2800万美元在忠南天安市建立EUV光刻胶和CMP焊盘的生产和生产设施。

目前，三星和SK海力士已经联合投资美国光刻胶开发商Infria。该公司主要开发一种基于金属氧化物的EUV无机光刻胶材料。据说光吸收率比现有的有机材料光致抗蚀剂高4倍。

韩国国内企业也在积极准备，其中，Dongjin Semichem在2010年开发了ArF光刻胶。目标是在今年第一季度扩建工厂，并于明年开始运营。在提供ArF的同时，它还计划进行EUV的研发。

SK materials也在2月份收购了锦湖石化光刻胶部门，锦湖石化是2005年第一批大规模生产的ArF光致抗蚀剂。EUV尚未达到供应阶段，但已获得了自己的专利。

氟化聚酰亚胺

Kolon Industries于2018年在庆北龟尾建立了一座聚酰亚胺工厂，经过去年的原型生产和样品供应后，目前已经开始批量生产。

SKC和SK Innovation也进军了聚酰亚胺业务，两家公司分别建厂，并进行样品测试，随着去年可折叠屏手机上市，聚酰亚胺这一关键材料市场一直相对活跃。

业内人士表示，自去年日本对韩国进行出口限制之后，行业内存在焦虑，企业和政府迅速做出反应，尽量减少对日依赖。

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